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利用胶体刻蚀技术与可控去润湿相结合构造异质双环阵列
利用胶体刻蚀技术与可控去润湿相结合构造异质双环阵列
资料类型:
PDF文件
关键词:
有序阵列
去润湿
胶体刻蚀
异质
资料大小:
4220K
所属学科:
分子表征
来源:
2011年全国高分子学术论文报告会(2011.9.24~28,大连)
简介:
近几年来,尺寸精确的纳米级图案或结构引起了科学家和工程师们的很大兴趣,这是由于这些结构在很多领域都有很大的潜在应用价值。亚微米尺寸的环在近几年被广泛的研究。将金属的或超导材料的环放置于磁场当中,就能够引起持久电流。
作者:
朱迪夫,黄贺,张刚,杨柏
上传时间:
2012-02-06 13:47:22
下载次数:
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